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氮化硅結合碳化硅磚的制備方法

發(fā)布時(shí)間:2023/1/6 16:35:56

在氮化物結合的耐火材料中,應用得比較廣泛的一類(lèi)材料是Si3N4結合SiC材料,與氧氮化硅結合碳化硅制品、賽隆結合碳化硅制品一樣,這種材料也是在氮化爐中通過(guò)反應燒結法得到的。

 

氮化硅和碳化硅都屬于共價(jià)鍵晶體,燒結困難,需要一定的方式將二者結合起來(lái)。通常制備氮化硅結合碳化硅材料的其他方法還有反應燒結法、碳熱還原二氧化硅法、熱壓燒結法,常壓燒結法、自蔓延高溫合成法等。

(1)反應燒結法

反應燒結法又稱(chēng)氮化燒結法,主要利用的反應如下:

3Si+2N2→Si3N4

氮化后產(chǎn)品同為α-Si3N4和β-Si3N4的混合物。這種方法是工業(yè)上用得最多的生產(chǎn)方法,利用此種方法,在原料加入SiC可到到Si3N4結合的SiC材料,由于氣氛中微量O2的存在,產(chǎn)物中往往會(huì )存在少量的Si2N2O,同時(shí)氮化反應的程度也是有限的,因此制品的內部可能會(huì )殘留部分未反應的游離Si。相較于氧化物結合的碳化硅制品,氮化硅結合的碳化硅制品表現出了更加優(yōu)異的高溫性能和抗渣侵蝕性能。

Si3N4的的生成過(guò)程主要有兩種機制:一是非直接氮化,由于氣氛中微量O2的存在,O2與表面的Si反應生成SiO(g),SiO(g)與氣氛中的氮氣通過(guò)氣相反應生成Si3N4,這種氣-氣反應生成的Si3N4一般是纖維狀的α-Si3N4;二是直接氮化,Si與N2反應直接生成Si3N4,其中Si的狀態(tài)可以是固態(tài)也可以是液態(tài),這種氣-固反應或氣-液反應生成的Si3N4一般為β-Si3N4。

反應燒結法的優(yōu)點(diǎn)在于反應的膨脹主要是坯體內部的膨脹,增大的體積能夠有效填充部分素坯內的空隙,使制品的致密化程度提高,同時(shí)制品的外觀(guān)尺寸基本沒(méi)有變化,適合制造形狀很復雜的產(chǎn)品。反應燒結法的缺點(diǎn)在于制品的氮化程度有限,這是因為N2從外部向內部逐漸滲透進(jìn)行的,外部氮化后N2向內部滲透愈加困難,內部往往氮化程度較低。李勇等研究發(fā)現,試樣在氮氣氣氛下燒成后,表面和中心區域的氮含量明顯不同,試樣表面的氮含量較高,且主要為纖維狀的Si3N4,中心區域的氮含量相對較低,Si3N4呈柱狀,導致這一結果可能是試樣外部和內部不同的生成機制。因此氮化硅結合碳化硅制品的成分存在分布不均現象。

(2)碳熱還原二氧化硅法

碳熱還原二氧化硅法采用的原料為SiO2和SiC,氣氛為氮氣氣氛,在該氣氛下利用碳將將二氧化硅還原成硅,Si與氣氛中的氮氣反應生成氮化硅,可能發(fā)生的反應如下:

3SiO2(s)+6C(s)+2N2→Si3N4(s)+6CO(g)

△G1-4=1317.04-750.57×10-3T

SiO2(s)+3C(s)→SiC(s)+2CO(g)

△G1-5=614.04-376.18×10-3T

2SiO2(s)+3C(s)+N2(g)→Si2N2O(s)+3CO(g)

△G1-6=-305.32+189.4×10-3T

根據各反應的吉布斯自由能△G隨溫度變化的情況,發(fā)現在不同溫度的理論產(chǎn)物是不同的。由反應的△G可計算得到,當溫度高于1755K、氮氣流量較高時(shí),產(chǎn)物為Si3N4:當溫度高于1633K、氮氣流量較低情況下,生成SiC;當溫度低于1600K、氮氣流量較低時(shí),生成的是Si2N2O,由此可分別得到氮化硅結合碳化硅制品、自集合碳化硅制品和氧氮化硅結合的碳化硅制品。因此通過(guò)控制燒結溫度及氮氣流量,可以得到不同的產(chǎn)物,實(shí)現對反應過(guò)程的控制。

(3)Si(NH)2熱分解法

Si(NH)2熱分解法是在900~1200℃的溫度下將Si(NH)2分解為Si3N4,前驅體Si(NH)2制備的方法主要有兩種,一是用SiH4和NH3通過(guò)氣相反應得到Si(NH)2;另一種方法是將溶于有機溶劑的SiCl4在較低的溫度下與液氮反應生成Si(NH)2,獲得的Si(NH)2再用氨水處理。兩種方法的區別在于,前者是在管式爐中利用氣相反應生成Si(NH)2,盡管這種方法對設別的要求比較高,但反應過(guò)程是可控的;后者是在低溫下于有機溶劑中反應得到Si(NH)2,再經(jīng)洗滌,工藝操作較為簡(jiǎn)單。

分解得到的Si3N4通常情況下是無(wú)定形的,無(wú)定形Si3N4在保護性的流動(dòng)氮氣氣氛中加熱(1400℃~1600℃)從而發(fā)生結晶,得到了α-Si3N4晶須,隨著(zhù)溫度的繼續升高,α-Si3N4逐漸向β-Si3N4轉化,β-Si3N4含量增多,主要發(fā)生的反應如下:

SiCl4+6NH3→Si(NH)2+4NH4CI

3Si(NH)2→Si3N4+3H2+N2

Si3N4(無(wú)定形)→Si3N4(晶須)


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